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突然被告了?那是因為你還不知道構成專利侵權的幾種方式
2021-09-18 09:46:52
來源:東創網

什么!我侵權了?我不過是用了幾張照片罷了,我怎么就侵權了?

很多人會遇到上述的困惑,特別是做電商的朋友們就更容易遇到了。就比如,你覺得某張圖片很好看,并且與你自身的產品很符合,最重要的是,很多人都會用,然后你就跟著用,殊不知,你用的可能是別人的專利哦~

 

為了避免這種誤用別人的專利的情況,東創網小編給大家整理了構成專利侵權的要件,仔細看,讓侵權遠離你。

 

構成專利侵權行為的要件包括兩個方面:形式條件和實質條件。

 

形式條件主要有:

1、實施行為所涉及的是一項有效的中國專利;

 

2、實施行為必須是未經專利權人許可或者授權的;

 

3、實施行為必須是以生產經營為目的。對于行為人是否具有主觀故意并不是形式要件。但是,可以作為衡量其情節輕重的依據。

 

構成專利侵權的實質條件,也就是技術條件,實質實施行為是否屬于專利的保護范圍。如果行為人所涉及的技術特征屬于專利權的保護范圍,那么該行為人就構成了專利侵權。

侵權主要有以下幾種表現形式:

 

1、行為人所涉及的技術特征與專利的技術特征全部相同,則構成侵權;

 

2、行為人所涉及的技術特征多于專利的技術特征,也構成侵權;

 

3、行為人所涉及的技術特征與專利的技術特征有相同的,有相異的,但是,相異的技術特征與專利的技術特征是等效的,仍構成侵權;否則,不構成侵權。這里技術特征等效,是指所屬技術領域的普通技術人員,能夠推斷出某兩種技術特征彼此替換后,所產生的效果相同。

 

記住侵權的要件、條件、形式等確實能夠讓我們避免無意中侵權,但是最根本的辦法還是做好專利布局,當你自身擁有很多的知識產權的時候,你擔心的就不是你本無意中侵權了,而是擔心被侵權了。

 

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圖片源于網絡,侵刪

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